図6-8 HI曝露下における中間層に(a)γ-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>層(b)SiO<sub>2</sub>層を持つH<sub>2</sub>分離膜のH<sub>2</sub>透過係数の変化

図6-8

図6-8 HI曝露下における中間層に(a)γ-Al₂O₃層 (b)SiO₂層を持つH₂分離膜のH₂透過係数の変化

中間層を従来のγ-Al₂O₃からSiO₂に変更した新規のH₂分離膜は、腐食性のHIガス環境でも安定な性能を示しました。

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