残留抵抗比

残留抵抗比とは、超伝導素線の室温(20 ℃)における電気抵抗と超伝導状態から常伝導状態に転移した直後の電気抵抗の比である。超伝導素線は超伝導体と安定化銅で構成され、この値は安定化銅の純度の指標として用いられる。(4-1 ITER超伝導コイルの製作に向けて)


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