高エネルギー集束プロトンビームを用いて主に高分子膜（レジスト）に描画（露光）し、高分子溶解液による現像処理を行うことで構造体を製作する技術をいう。加工精度はプロトンビームの径に依存する。高分子にプロトンビーム照射を行うことで、被照射部が架橋反応を起こして現像で残るものをネガ型、分解して溶出するものをポジ型という。(12-9 集束した水素イオンビームでミクロの凱旋門を作った)
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